אינדוסטריעל SiC ווערטיקאַל אויוון רער הויך טערמאַל קאַנדאַקטיוויטי און קעראָוזשאַן קעגנשטעליק

קורצע באַשרייַבונג:

אינזשענירט ווי די אויסערליכע פּראָצעס רער אין ווערטיקאַלע אויוון, אונדזער סיליקאָן קאַרבייד (SiC) רער גיט אַ שטרענג קאָנטראָלירטע אַטמאָספער און אַ העכסט איינהייטלעכן טעמפּעראַטור פעלד. עס איז געבויט צו דערהאַלטן פּראַלאָנגד ויסשטעלן צו ~1200 ℃ און קאָמפּלעקס פּראָצעס גאַזן, וואָס פאָדערן גאָר הויך ריינקייט, שטאַרק טערמיש פאָרשטעלונג, און שטיין-האַרט סטרוקטוראַל אָרנטלעכקייט.

שיקט אַן אימעיל צו אונדז

פֿעיִטשערז

דעטאַלירטע דיאַגראַמע

סיליקאָן קאַרבייד ווערטיקאַל אויוון רער — פּראָדוקט איבערבליק

קוואַרץ גלאָז בלעטער, אויך באַקאַנט ווי פאַרשמאָלצענע סיליקאַ פּלאַטעס אָדער קוואַרץ פּלאַטעס, זענען העכסט ספּעציאַליזירטע מאַטעריאַלן געמאַכט פון הויך-ריינקייט סיליקאָן דייאַקסייד (SiO₂). די טראַנספּאַרענטע און דויערהאפטע בלעטער ווערן געשעצט פֿאַר זייער אויסערגעוויינלעכע אָפּטישע קלאַרקייט, טערמישע קעגנשטעל און כעמישע פעסטקייט. צוליב זייערע העכערע אייגנשאַפטן ווערן קוואַרץ גלאָז בלעטער ברייט גענוצט אין קייפל אינדוסטריעס, אַרייַנגערעכנט האַלב-קאָנדוקטאָרן, אָפּטיק, פאָטאָניקס, זונ - ענערגיע, מעטאַלורגיע און אַוואַנסירטע לאַבאָראַטאָריע אַפּליקאַציעס.

אונדזערע קוואַרץ גלאָז בלעטער ווערן פאַבריצירט מיט הויך-קוואַליטעט רוי מאַטעריאַלן ווי נאַטירלעכע קריסטאַל אָדער סינטעטישע סיליקאַ, פּראַסעסט דורך פּינקטלעכע צעשמעלצן און פּאָלירן טעקניקס. דער רעזולטאַט איז אַן אולטראַ-פלאַך, נידעריק-ריינקייט, און בלאָז-פֿרייַ ייבערפלאַך וואָס טרעפֿט די שטרענגסטע רעקווירעמענץ פון מאָדערנע אינדוסטריעלע פּראָצעסן.

שליסל פֿעיִקייטן

איין-שטיק 3D-געדרוקטע סטרוקטור
עלימינירט סימז און דרוק קאָנצענטראַטאָרן צו מאַקסאַמייז מעטשאַניקאַל שטאַרקייט און פאַרלאָזלעכקייט.

אולטרא-נידעריקע אומריינקייטן
באַזע מאַטעריאַל300 פּיפּיעםCVD-באדעקטע ייבערפלאַך5 פּיפּיעם—מינימיזירן קאַנטאַמאַניישאַן פֿאַר אַולראַ-ריינע פּראַסעסינג.

הויך טערמישע קאַנדאַקטיוויטי
שנעלע, גלייכע היץ איבערפיר ערמעגליכט גענויע טעמפּעראַטור קאָנטראָל און ענגע אַריבער-ווייפער איינהייטלעכקייט.

אויסגעצייכנטע טערמישע קלאַפּ טאָלעראַנץ
האַנדלט מיט אָפטע הייס/קאַלט ציקלען אָן קראַקינג—פאַרלענגערט די לעבן פון די סערוויס און שניידט וישאַלט.

העכערע קעראָוזשאַן קעגנשטעל
CVD SiC ייבערפלאַך באַשיצט קעגן אַגרעסיוו כעמיעס און פֿאַרשידענע אַטמאָספֿערעס פֿאַר לאַנג-טערמין פעסטקייט.

אַפּליקאַציעס

האַלב-קאָנדוקטאָר:אָקסידאַציע, דיפוזיע, אַנילינג - יעדער שריט וואָס ריקווייערז שטרענגע טעמפּעראַטור איינהייטלעכקייט און ריינקייט.
פאָטאָוואָלטאַיקס:וועיפער טעקסטשערינג, דיפוזיע, פּאַסיוואַציע מיט סטאַבילע, איבערחזרנדיקע רעזולטאַטן.
אַוואַנסירטע מאַטעריאַלן און היץ באַהאַנדלונג:איינהייטלעכע הויך-טעמפּעראַטור סביבות פֿאַר פאָרשונג און אַנטוויקלונג און פּראָדוקציע עקוויפּמענט.

אָפֿט געשטעלטע פֿראַגעס

ק1: הויפּט אַפּליקאַציעס?
A:האַלב-קאָנדוקטאָר, פאָטאָוואָלטאַיק, און אַוואַנסירטע מאַטעריאַלן פּראָצעסן—למשל, דיפוזיע, אָקסידאַציע, אַנילינג, און פּאַסיוואַציע—וואו אַטמאָספער און טעמפּעראַטור איינהייטלעכקייט טרייבן ייעלד.

ק2: מאַקסימום אַפּערייטינג טעמפּעראַטור?
A:ראַטעד צו≤ 1300 ℃טיפּישע קאָנטינויִערלעכע אָפּעראַציע איז אַרום1200 ℃מיט אויסגעצייכנט סטרוקטורעל פעסטקייט.

ק3: ווי פאַרגלייכט עס זיך צו קוואַרץ אָדער אַלומינאַ רערן?
A:SiC גיט העכערע טעמפּעראַטור קייפּאַבילאַטי, פיל בעסערע טערמישע קאַנדאַקטיוויטי, העכערע טערמישע-שאָק קעגנשטעל, לענגערע סערוויס לעבן, און באמערקלעך נידעריקערע פאַרפּעסטיקונג לעוועלס - ידעאַל פֿאַר מאָדערנע האַלב-קאָנדוקטאָר און PV רעקווייערמענץ.

וועגן אונדז

XKH ספּעציאַליזירט זיך אין הויך-טעק אַנטוויקלונג, פּראָדוקציע און פארקויפונג פון ספּעציעלע אָפּטישע גלאָז און נייע קריסטאַל מאַטעריאַלן. אונדזערע פּראָדוקטן דינען אָפּטישע עלעקטראָניק, קאָנסומער עלעקטראָניק און די מיליטער. מיר פאָרשלאָגן סאַפיר אָפּטישע קאָמפּאָנענטן, מאָביל טעלעפאָן לינז דעקל, קעראַמיק, LT, סיליקאָן קאַרבייד SIC, קוואַרץ און האַלב-קאָנדוקטאָר קריסטאַל וועיפערס. מיט באַגאַבטער עקספּערטיז און שניידנדיקער עקוויפּמענט, מיר עקסעלירן אין ניט-סטאַנדאַרט פּראָדוקט פּראַסעסינג, מיט דער ציל צו זיין אַ פירנדיקע אָפּטאָעלעקטראָנישע מאַטעריאַלן הויך-טעק ענטערפּרייז.