אַלומינאַ קעראַמיק וועיפער 4 אינטש ריינקייט 99% פּאָליקריסטאַלין טראָגן קעגנשטעליק 1 מם גרעב

אַלומינום אָקסייד (Al2O3) אָפפערט אַ קאָמבינאַציע פון ​​אויסגעצייכנטע מאַטעריאַל אייגנשאַפטן און די נידעריגסטע קאָסטן. הויכע מעכאַנישע שטאַרקייט, כאַרדנאַס, אַברייזשאַן קעגנשטעל, ריפראַקטאָרינאַס, טערמישע קאַנדאַקטיוויטי, און כעמישע אינערטנאַס לאָזן די סובסטיטוציע פון ​​טייערערע מאַטעריאַלן אין עטלעכע פאלן צו רעדוצירן פּראָדוקציע קאָסטן. דער Al2O3 אינהאַלט ווערייִרט פון 96% צו 99.7% און די גרעב ווערייִרט פון 0.25 מם. ייבערפלאַכן קענען זיין געשליפן אָדער פּאַלישט, מעטאַליזירט און אין יעדער געאָמעטריע.

אַלומינאַ קעראַמיק האָט אַ פאַרשיידנקייט פון ניצט אין אינדוסטריע, די פאלגענדע זענען עטלעכע פון ​​די הויפּט אינדוסטריעלע אַפּלאַקיישאַנז:

אַברייסיווז און גרינדינג מעדיע: אַלומינאַ קעראַמיק ווערן אָפט געניצט ווי אַברייסיווז און גרינדינג מעדיע פֿאַר גרינדינג און פּאָלירינג פון מעטאַלן, גלאָז, קעראַמיק און אַנדערע מאַטעריאַלן צוליב זייער הויך כאַרדנאַס און גוט טראָגן קעגנשטעל.

כעמישער רעאַקטאָר: אַלומינאַ קעראַמיק קען געניצט ווערן ווי פילער אָדער געמאכט אין רעאַקטאָר ליינינג, געניצט אין כעמישע רעאַקטאָרן, ספּעציעל אין הויך טעמפּעראַטור, קעראָוסיוו סוויווע.

עלעקטראָנישע קעראַמיק: אַלומינאַ קעראַמיק ווערט אָפט געניצט אין דער פּראָדוקציע פון ​​עלעקטראָנישע קאָמפּאָנענטן, ווי למשל ינסולאַטאָרן, קאַפּאַסיטאָרן, עלעקטראָנישע קעראַמישע סאַבסטראַטן, אאז"ו ו, צוליב זייערע ינסולירנדיקע אייגנשאַפטן און הויך טעמפּעראַטור קעגנשטעל.

טערמישע אינדוסטריע: אַלומינאַ קעראַמיק איז אָפט געניצט אין הויך-טעמפּעראַטור אויוון און קילנז, היץ ינסאַליישאַן, טערמישע ינסאַליישאַן און ראַפראַקטאָרי מאַטעריאַלס פֿאַר טערמישע אינדוסטריעלע ויסריכט רעכט צו זייער הויך טעמפּעראַטור קעגנשטעל און היץ קאַנדאַקשאַן פּראָפּערטיעס.

מעדיצינישע דעוויסעס: אַלומינאַ קעראַמיק ווערן אויך גענוצט אין די פעלד פון מעדיצינישע דעוויסעס, אַזאַ ווי קינסטלעכע דזשוינץ, דענטאַל פאַרריכטן מאַטעריאַלס.

מיר אָננעמען קאַסטאַמייזד צייכענונג, באַגריסונג צו פרעגן!